LAB 10 / 10 光譜與相位

波片外差干涉量測

以外差干涉配置量測波片相位延遲與快軸方向;光源與待測波片的波長條件沿用來源記載,待技術窗口核對。

摘要依現有名稱與設備資料整理;實驗表現與量測條件請以實際配置及技術確認為準。

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LAB 10|波片外差干涉量測

光通光電 LAB10 外差干涉術用於波片相位延遲量測 實驗用光學平台與設備實拍照片

實驗操作影像

波片外差干涉量測

約 2:11

設備組成

實驗套件規格資訊

組件規格說明
干涉儀外差干涉儀
光源532nm外差光源(旋轉偏振片+QWP法)
待測元件633nm四分之一波片(QWP)
檢測方式鎖相放大器(軟體解調)
量測目標波片相位延遲量 τ 與快軸方向 θ

規格內容依現有資料呈現,單位與條件尚待技術窗口校對;此處不代表量測精度或性能保證。

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